為了更好的了解這個微弧氧化，確保中間不會出問題，下面跟隨小編先來了解一下微弧氧化的影響因素。
一、工件材質及表面狀態
1、微弧氧化對鋁材要求不高，不管是含銅或是含硅的難以陽極氧化鋁合金，只要閥金屬比例占到40%以上，均可用于微弧氧化，且能得到理想膜層。
2、表面狀態一般不需要經過拋光處理，對于粗糙的表面，經過微弧氧化，可修復的平整光滑；對于粗糙度低（即光滑）的表面，則會增加粗糙度。
二、液體成分對氧化造成的影響
電解液成分是得到合格膜層的關鍵因素。微弧氧化液一般選用含有一定金屬或 非金屬氧化物堿性鹽溶液，如硅酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等。在相同的微弧電解電壓下，電解質濃度越大，成膜速度就越快，溶液溫度上升越慢，反之，成膜速度較慢，溶液溫度上升較快。
三、溫度對微弧氧化的影響
微弧氧化與陽極氧化不同，所需溫度范圍較寬。一般為10—90度。溫度越高，成膜越快，但粗糙度也增加。且溫度高，會形成水氣。一般建議在20—60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放，所以液體溫度上升較快，微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統以控制槽液溫度。
四、時間對微弧氧化的影響
微弧氧化時間一般控制在10～60min。氧化時間越長，膜的致密性越好，但其粗糙度也增加。
五、陰極材料
陰極材料可選用不銹鋼，碳鋼，鎳等，可將上述材料懸掛使用或做成陰極槽體。
六、后處理對微弧氧化的影響
微弧氧化過后，工件可不經過任務處理直接使用，也可進行封閉，電泳，拋光等后續處理。
